Sala limpia
   
Zonas:
  Zona de fotolitografía de clase 100.
  Zona de baños químicos de clase 1.000.
  Zona de proceso, caracterización y encapsulado, de clase 1.000.
Sistema de ultrapurificación de agua y agua desionizada.
Control medioambiental de los residuos.
 
Equipamiento
 
Equipo de fotolitografía
 
Baño químico Ramgraber con diversos pozos para realizar las limpiezas de las muestras así como el revelado de la fotorresina, con y sin ultrasonidos. Dispone de 2 spinners para el depósito de la fotorresina y para realizar secados.
  Alineadora-insoladora de doble cara Karl Süss MA6/BA6.
     

Sala de fotolitografía
   
Equipos de proceso:
  Horno de oxidación térmica seca o húmeda ATV PEO-601.
  Limpieza por plasma Harrick.
  Sistema de recubrimiento Pfeiffer Vacuum Classic 500 con 4 magnetrones de 4" Ferrotec.
     
Equipos de procesos químicos:
  2 baños químicos de propósito general Ramgraber para limpieza y procesado.
  Un baño químico de KOH Ramgraber.
  Sistema de parada electroquímica en KOH con potenciostato AMMT model SC.
  Sistema de porosificación/electropulido de silicio AMMT PSB.
  Sistema de electrodepósito Fibrotools Iko.
     
Sala de baños químicos
     
Equipos de ataque seco:
  Sistema de ataque seco de óxidos RIE Oxford Plasmalab 80.
  Sistema de ataque profundo de silicio DRIE Oxford Plasmalab 80.
     
Sala de procesado, encapsulado y caracterización
     
Encapsulado:
  Máquina de encapsulado a nivel de oblea (anodic bonding, eutéctico, silicio-silicio) Karl Süss SB6.
  Cortadora Disco DAD321.
  Máquina flexible de die attach y flip-chip Dr. Tresky 3002.
  Máquinas de interconexionado Kulicke & Soffa 4524 (ball-wedge) y 4523 (wedge-wedge)
  Ensayos de pull and shear con el sistema Dage 4000.
     
Caracterización:
  Microscopio electrónico Quanta 200 con análisis de materiales EDAX Genesis 2000.
  Microscopio LEICA DM LM de hasta 1.000 aumentos.
  Estereomicroscopio Leica MZ 12.5, con cámara digital Leica DC200 y software IM 1000.
  Perfilómetro confocal sin contacto Atos.
  Índice de refracción Metricon Model 2010 Prism Coupler.
  Elipsómetro Sentech SE500.
  Resistencia de hoja Jandel multi-position.
  Equipamiento óptico para ensayos en guías de onda.
  Cámara climática Climats Excal 5424-HE para ensayos de temperatura y humedad.
     
Diseño y simulación:
  Simulación multifísica, mediante el método de los elementos finitos con:
   
Ansys Multiphysics.
CFD-ACE+
  Simulación de fluidos Fluent.
  Simulación óptica Alcatel OlympiOs
  Diseño de máscaras Alcatel Odin.
  Diseño de encapsulados ProEngineer.
     
Otro equipamiento
     
Equipo de prototipado rápido por Fused Deposition Modeling (FDM) Stratasys Prodigy Plus.
Cámara semianecoica para medidas acústicas con diverso equipamiento.
Particle Image Velocimetry con láser de Nd-Yag de doble pulso, cámara CCD de 200ns y software de análisis de imágenes, WinSC 4.1 LaVision.
Cámara semianecoica para compatibilidad electromagnética y célula GTEM para ensayos de inmunidad y emisión radiadas.
Equipo de análisis de redes y RF.
Entorno de diseño EDA y laboratorio de ensamblaje e inspección.